众铂新材料,新材料大全——供应镓酸钕(NdGaO3)晶体
发布:2017-05-12 14:48,更新:2010-01-01 00:00
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NdGaO3是近十年中发展起来的新型基片,主要用作高温超导体(如YBCO)及磁性材料的外延薄膜生长用基片。由于NdGaO3与YBCO的晶格失配很小(~0.27%),且无结构相变,在NdGaO3基片上可外延生长质量良好的薄膜。
主要性能参数
晶体结构:正交
晶胞参数:Å a=5.43、b=5.50、c=7.71
熔点:1600℃
密度:7.57g/cm3
介电常数:25
生长方法:提拉法
尺寸:10x3,10x5,10x10,15x15,,20x15,20x20,Ф15,Ф20,Ф1″,Ф2″,Ф2.6″
厚度:0.5mm,1.0mm
抛光:单面或双面
晶向:<100> <110> <111>
晶面定向精度:±0.5°
边缘定向精度:2°(特殊要求可达 1°以内)
斜切晶片:可按特定需求,加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜(倾斜角 1°-45°)的晶片。
Ra:≤5Å(5µm×5µm)
包装:100 级洁净袋,1000 级超净室
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