优质氧化镁(MgO)单晶衬底基片_优质氧化镁_就选众铂新材料

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    单晶基片广泛应用在多个薄膜技术领域中。如用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光

学薄膜和高温超导薄膜等。由于 MgO 单晶在微波波段的介电常数和损耗都很小，且能得到大面积的基片（直径 2 英吋及更大），所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。 可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。具有很大的现实及潜在应用市场。

主要性能参数

生长方法：弧熔法

晶体结构：立方

晶格常数：a=4.130 Å

熔点（℃）：2800

纯度：99.95%

密度：3.58（g/cm3）

硬度：5.5（mohs）

热膨胀系数（/℃）：11.2x10-6

晶体解理面：<100>

光学透过：>90%（200~400nm），>98%（500~1000nm）

介电常数：ε= 9.65

热导率（卡／度 厘米 秒）：0.14 300°K

尺寸：10x3，10x5，10x10，15x15，，20x15，20x20，dia2” x 0.33mm dia2” x 0.43mm 15 x15 mm

厚度：0.5mm，1.0mm

抛光：单面或双面

晶向：<001>±0.5º 晶面定向精度: ±0.5°

边缘定向精度： 2°（特殊要求可达 1°以内）

斜切晶片：可按特定需求，加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜（倾斜角 1°－45°）的晶片。

Ra:：≤5Å（5µm×5µm）

主要特点：由于 MgO 单晶在微波波段的介电常数和损耗都很小，且能得到大面积的基片（直径 2 英吋及更大），所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。

主要用途：用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和高温超导薄膜等, 也可用于制作移

动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。

包装：100 级洁净袋，1000 级超净室

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